一種基于碳量子點(diǎn)的質(zhì)子交換膜及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201911086964.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN110797561B | 公開(公告)日 | 2020-02-14 |
| 申請公布號 | CN110797561B | 申請公布日 | 2020-02-14 |
| 分類號 | H01M8/1018(2016.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 田文迪;王永霞;田丙倫;傅婧;喬錦麗 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州創(chuàng)明氫電材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州根號專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 項(xiàng)麗 |
| 地址 | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)興浦路333號納米城Ⅱ區(qū)納米健康產(chǎn)業(yè)園1號樓405室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種基于碳量子點(diǎn)的質(zhì)子交換膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:步驟S1、基膜材料的制備;步驟S2、碳量子點(diǎn)摻雜;步驟S3、澆注成膜。本發(fā)明還公開了根據(jù)所述基于碳量子點(diǎn)的質(zhì)子交換膜的制備方法制備得到的基于碳量子點(diǎn)的質(zhì)子交換膜。本發(fā)明公開的基于碳量子點(diǎn)的質(zhì)子交換膜具有更加優(yōu)異的氧化穩(wěn)定性和力學(xué)性能,更高的質(zhì)子傳導(dǎo)率。?? |





