一種衰減型高均勻的相移光掩膜坯料及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011400325.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN112666789A 公開(kāi)（公告）日 2021-04-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN112666789A 申請(qǐng)公布日 2021-04-16
分類號(hào) G03F1/32;G03F1/46;G03F1/44;C23C14/35;C23C14/10;C23C14/06 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 徐根;李翼;李偉;周志剛;楊旭 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 湖南普照信息材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊威
地址 410205 湖南省長(zhǎng)沙市岳麓區(qū)麓楓路40號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種衰減型高均勻的相移光掩膜坯料，包括：玻璃基片；復(fù)合在所述玻璃基片上的相移層；復(fù)合在所述相移層上的鉻氮化物遮光膜層；復(fù)合在所述鉻氮化物遮光膜層上的鉻氮氧化物減反射膜層；所述相移層為硅氧化物薄膜。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的衰減型高均勻的相移光掩膜坯料采用特定膜結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)較好的整體相互作用，從而使該相移光掩膜坯料兼具高均勻性和良好的顯示效果，并且具有強(qiáng)的耐氫氟酸性，應(yīng)用范圍廣。