一種針對大顆粒的清洗系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120227324.4 申請日 -
公開（公告）號 CN214718972U 公開（公告）日 2021-11-16
申請公布號 CN214718972U 申請公布日 2021-11-16
分類號 B08B5/02（2006.01）I;B08B5/04（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 李海偉;曹欣 申請（專利權）人 北京京城清達電子設備有限公司
代理機構 北京挺立專利事務所（普通合伙） 代理人 蔡宗慧
地址 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)經(jīng)海二路5號2號樓一層東側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開一種針對大顆粒的清洗系統(tǒng)，包括負壓腔體組合單元、調(diào)節(jié)支撐單元、風刀單元、風箱單元，所述負壓腔體組合單元包括上蓋板、下蓋板、側(cè)擋板、彎管、調(diào)節(jié)結構，所述上蓋板安裝在下蓋板上，所述側(cè)擋板安裝在上蓋板側(cè)面，所述彎管及調(diào)節(jié)結構安裝在上蓋板上表面，所述調(diào)節(jié)結構包括底板、立板、頂板、調(diào)整件，所述底板安裝于蓋板上，所述立板安裝于底板上，所述頂板安裝于立板上，所述調(diào)整件安裝于頂板上，所述調(diào)節(jié)支撐單元包括調(diào)整底板、支撐立板、上支撐板，所述上支撐板安裝在支撐立板上，所述支撐立板安裝在調(diào)整底板上，本實用新型在產(chǎn)品經(jīng)過清洗系統(tǒng)下方時完成對產(chǎn)品上表面的清洗。