光學測量參考裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022910271.4 申請日 -
公開（公告）號 CN213902371U 公開（公告）日 2021-08-06
申請公布號 CN213902371U 申請公布日 2021-08-06
分類號 G01C15/02（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 杜華;董偉超;李智;李洲強 申請（專利權(quán)）人 北京天遠三維科技有限公司
代理機構(gòu) 北京開陽星知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊中鶴;麻雪梅
地址 100192北京市海淀區(qū)清河永泰園甲1號綜合樓512-519房間
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及光學測量技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學測量參考裝置。包括至少四個靶標和至少一個主體支撐結(jié)構(gòu)，每個靶標均包括與主體支撐結(jié)構(gòu)連接的固定部、遠離主體支撐結(jié)構(gòu)的端頭部以及位于固定部與端頭部之間的側(cè)端部，側(cè)端部上設(shè)有至少一組第一標記點，每組第一標記點的中心均位于同一平面上，同一組的第一標記點的中心所在平面平行于相對應的靶標所在的球體的切平面，主體支撐結(jié)構(gòu)上設(shè)有安裝部。本公開通過對靶標以及靶標上標記點的位置進行設(shè)置，可滿足全方位無死角的任意觀測角度需求，并將其模塊化，從而在保證測量精度和可靠性的同時，有效提升了技術(shù)的適用性和效率，并大幅降低了技術(shù)門檻和方案成本。