一種CHA分子篩的合成方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201711326701.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108002403B 公開（公告）日 2019-06-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN108002403B 申請(qǐng)公布日 2019-06-14
分類號(hào) C01B39/04（2006.01）I 分類 無(wú)機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 薛招騰; 丁姜宏; 夏建超; 文懷有; 談赟 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 卓悅環(huán)保新材料（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海華工專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 卓悅環(huán)保新材料（上海）有限公司
地址 201507 上海市金山區(qū)工業(yè)園區(qū)金軒路66號(hào)3號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種CHA分子篩的合成方法，包括制備CHA分子篩的前驅(qū)體，然后加入硅源、鋁源進(jìn)行晶化，得到CHA分子篩樣品，獲得的樣品進(jìn)一步采用酸?堿?酸耦合交替處理，最后對(duì)獲得的樣品進(jìn)行干燥、焙燒，獲得氫型CHA分子篩，其中：所述的酸?堿?酸耦合交替處理是將分子篩樣品依次放入酸、堿和酸的水溶液中，在30～90℃下攪拌1～5h，其中，所述的酸為鹽酸、硝酸、硫酸、草酸中的一種或幾種，所述的堿為氫氧化鈉。本發(fā)明的方法獲得的CHA分子篩的晶粒尺寸100?500nm，利于后續(xù)反應(yīng)應(yīng)用；對(duì)CHA分子篩進(jìn)行后續(xù)酸?堿?酸耦合處理，可以有效去除晶體表面無(wú)定型，解決傳統(tǒng)合成方法所得產(chǎn)物無(wú)法焙燒完全、焙燒產(chǎn)物中有黑點(diǎn)存在的問題。