一種熱敏印版曝光機構保護裝置及熱敏直接制版機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120041509.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214324522U 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN214324522U 申請公布日 2021-10-01
分類號 B41C1/055（2006.01）I;B08B15/04（2006.01）I;B01D46/00（2006.01）I;B01D46/10（2006.01）I 分類 印刷；排版機；打字機；模印機〔4〕;
發(fā)明人 蘇春讓;王潔;王科 申請（專利權）人 中煤航測遙感集團有限公司
代理機構 北京超凡宏宇專利代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 張洋
地址 710199陜西省西安市航天基地神舟四路216號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種熱敏印版曝光機構保護裝置及熱敏直接制版機，涉及一種熱敏印刷制版領域，熱敏印版曝光機構保護裝置包括光源，光學模組以及除塵機構；光學模組設置于光源的出光側，用于對熱敏印版曝光，除塵機構設置于光學模組的一側。本實用新型的目的在于提供一種熱敏印版曝光機構保護裝置及熱敏直接制版機，其能夠有效清除熱敏直接制版機光學模組曝光時熱敏印版產生的粉塵，有效減少光學模組的故障率，提高熱敏直接制版機的光學模組的穩(wěn)定性，提高熱敏直接制版機的工作效率。