半自動阻焊曝光機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121776738.9 申請日 -
公開（公告）號 CN215449885U 公開（公告）日 2022-01-07
申請公布號 CN215449885U 申請公布日 2022-01-07
分類號 G03F7/20（2006.01）I;G03F9/00（2006.01）I;H05K3/28（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張方德 申請（專利權(quán)）人 浙江歐視電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 溫州金甌專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳暉
地址 325000浙江省溫州市溫州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)溫州大道700號主樓一層、三層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種半自動阻焊曝光機(jī)，其包括機(jī)體，所述機(jī)體依次設(shè)置為對位區(qū)域及曝光區(qū)域，所述機(jī)體上設(shè)有兩組分層設(shè)置的軌道，所述軌道橫跨所述對位區(qū)域及曝光區(qū)域，且兩組個軌道上均設(shè)有PCB框架，兩組PCB框架沿所述軌道交替進(jìn)入曝光區(qū)域，所述對位區(qū)域位于PCB框架的上下兩側(cè)設(shè)有若干用于檢測對位結(jié)果的CCD視覺檢測機(jī)構(gòu)，所述曝光區(qū)域內(nèi)位于PCB框架的上下兩側(cè)設(shè)有用于PCB正反兩面曝光的曝光機(jī)構(gòu)。采用雙組具備自動對位功能的PCB框架，在曝光之前自動對位，其省去了以往雙面曝光機(jī)的抬升機(jī)構(gòu)及對位機(jī)構(gòu)，極大的減小了PCB框架的上下空間，可以實現(xiàn)雙層設(shè)計，提高曝光效率，同時對位精度高（可達(dá)20微米），且曝光時間短（2秒）。