一種MPCVD腔體結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120330950.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215251168U 公開（公告）日 2021-12-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN215251168U 申請(qǐng)公布日 2021-12-21
分類號(hào) C23C16/511（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 胡常青;鄒益 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海鉑世光半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海邦德專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余娜
地址 201707上海市青浦區(qū)新科路303號(hào)1幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種MPCVD腔體結(jié)構(gòu)，包括腔體本體、微波源和波導(dǎo)，波導(dǎo)頂部遠(yuǎn)離微波源一側(cè)設(shè)置有模式轉(zhuǎn)換器，模式轉(zhuǎn)換器貫穿波導(dǎo)且位于腔體本體內(nèi)，腔體本體內(nèi)部底部固定連接有支撐柱，支撐柱頂端固定連接有支撐臺(tái)，支撐臺(tái)頂部固定連接有放置臺(tái)，腔體本體外側(cè)中部開設(shè)有環(huán)形槽，環(huán)形槽內(nèi)環(huán)繞設(shè)置有密封環(huán)，密封環(huán)與腔體本體轉(zhuǎn)動(dòng)連接，腔體本體靠近微波源一側(cè)頂部開設(shè)有進(jìn)氣口，腔體本體內(nèi)壁頂部固定連接有石英窗口，有益效果是：本實(shí)用新型操作簡(jiǎn)單，使用方便，可以根據(jù)不同的散熱需求進(jìn)行有效的自由調(diào)節(jié)，同時(shí)，通過(guò)多種散熱方式有效的增加散熱速度，提高散熱效率，同時(shí)在設(shè)備運(yùn)行時(shí)可以有效的保證散熱孔的密封性，不會(huì)對(duì)設(shè)備的運(yùn)行造成影響。