多元合金復合薄膜制備設備和制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710305293.8 申請日 -
公開（公告）號 CN107130213A 公開（公告）日 2017-09-05
申請公布號 CN107130213A 申請公布日 2017-09-05
分類號 C23C14/26(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 趙海波;梁紅櫻;董騏;杜建;鮮廣;但秦 申請（專利權）人 成都真銳科技涂層技術有限公司
代理機構 成都虹橋專利事務所（普通合伙） 代理人 成都真銳科技涂層技術有限公司;四川大學
地址 610052 四川省成都市成華區(qū)東三環(huán)路二段龍?zhí)豆I(yè)園成都真銳科技涂層技術有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種多元合金復合薄膜制備設備和制備方法，尤其是一種涉及納米涂層技術領域的多元合金復合薄膜制備設備和制備方法。本發(fā)明提供一種可顯著提高所鍍膜的切削刀具綜合性能的多元合金復合薄膜制備設備，包括加熱系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、真空室、載物架、升降機構、坩堝蒸發(fā)源、磁控濺射源、陰極電弧源和電氣控制系統(tǒng)。本申請的設備可以實現(xiàn)陰極電弧離子鍍與磁控濺射的組合工藝，及真空蒸發(fā)鍍與磁控濺射相結合的二元蒸發(fā)源工藝，進行多元合金復合薄膜的制備，準確控制各類薄膜的組織結構，從而得到高的硬度、低的內應力、高的結合力、低的粗糙度、良好的耐磨性等綜合性優(yōu)異的多元薄膜，且在制備過程中具有高的沉積速率。