鍍膜系統(tǒng)和鍍膜生產(chǎn)線
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202123164891.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN216663232U | 公開(公告)日 | 2022-06-03 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216663232U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-03 |
| 分類號(hào) | C23C18/16(2006.01)I;C23C18/20(2006.01)I;C23C18/40(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 周高陽;劉國春;李學(xué)法;張國平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江陰納力新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 214431江蘇省無錫市江陰市申港街道臨港科創(chuàng)園3號(hào)樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種鍍膜系統(tǒng)和鍍膜生產(chǎn)線。鍍膜系統(tǒng)包括:放卷裝置,能夠收容以及勻速傳送薄膜;鍍膜池,設(shè)置在放卷裝置的輸出側(cè),并用于儲(chǔ)存鍍膜液,以對(duì)放卷裝置傳送過來的薄膜鍍膜處理;噴淋裝置,能夠清洗被鍍膜池鍍膜后的薄膜;烘干裝置,用于對(duì)噴淋裝置清洗后的薄膜烘干處理;收卷裝置,設(shè)置在烘干裝置的輸出側(cè),能夠勻速傳送和收容被烘干裝置處理后的薄膜。當(dāng)需要將薄膜鍍膜時(shí),薄膜從放卷裝置移出,并收容在放卷裝置。當(dāng)薄膜勻速通過鍍膜池時(shí),鍍膜池的鍍膜液能夠均勻地附著在薄膜上,從而使得薄膜的鍍膜層厚度增加。通過控制放卷裝置傳送薄膜的速率,能夠使得薄膜上的鍍膜層的厚度增加的不同。 |





