刻蝕機腔室內(nèi)襯

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121629430.1 申請日 -
公開（公告）號 CN215418099U 公開（公告）日 2022-01-04
申請公布號 CN215418099U 申請公布日 2022-01-04
分類號 H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉峰;蘇榕城 申請（專利權(quán)）人 蘇州工業(yè)園區(qū)雨竹半導(dǎo)體有限公司
代理機構(gòu) 北京權(quán)智天下知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王新愛
地址 215000江蘇省蘇州市中國（江蘇）自由貿(mào)易試驗區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)蘇虹中路39號2幢2樓西側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了刻蝕機腔室內(nèi)襯，包括與等離子體刻蝕機反應(yīng)腔內(nèi)壁相貼合的柱形中空的內(nèi)襯本體，所述內(nèi)襯本體的一側(cè)開設(shè)有與等離子體刻蝕機反應(yīng)腔基片進出口位置對應(yīng)的開口，所述內(nèi)襯本體于所述開口的相對一側(cè)開設(shè)有T形開口，所述T形開口的兩側(cè)沿內(nèi)襯本體周向開設(shè)有若干個與等離子體刻蝕機反應(yīng)腔的分子泵抽氣孔位置對應(yīng)的勻流槽孔，所述T形開口的兩側(cè)內(nèi)壁上端一體連接有垂直于內(nèi)襯本體外表面的懸掛片，所述懸掛片搭接于等離子體刻蝕機反應(yīng)腔內(nèi)壁。本實用新型能夠在保護腔室內(nèi)壁同時加快抽氣速率，能夠減少附著在腔室內(nèi)壁上的刻蝕沉積物，使機臺內(nèi)部氣體濃度增加，使機臺在刻蝕中，增加刻蝕速率，減少刻蝕時間。