一種倒裝真空晶圓貼膜裝置
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110235041.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN112786497A | 公開(公告)日 | 2021-05-11 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112786497A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-11 |
| 分類號(hào) | H01L21/67 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 沈凱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 芯鈦科半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上??剖⒅R(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 丁云 |
| 地址 | 200070 上海市靜安區(qū)共和新路912號(hào)1102-1室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種倒裝真空晶圓貼膜裝置,該裝置包括上真空腔(1)和下真空腔(2),所述的上真空腔(1)和下真空腔(2)分別獨(dú)立與吸真空設(shè)備連接,所述的上真空腔(1)中設(shè)有吸附晶圓(3)電路板面的吸附結(jié)構(gòu),用于貼膜的薄膜通過(guò)張緊結(jié)構(gòu)張緊,所述的下真空腔(2)中設(shè)有支撐結(jié)構(gòu),所述的張緊結(jié)構(gòu)固定在支撐結(jié)構(gòu)上,所述的下真空腔(2)中支撐臺(tái)下方設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)支撐結(jié)構(gòu)上下運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu),張緊結(jié)構(gòu)安裝到位后,張緊結(jié)構(gòu)上的薄膜下表面與下真空腔(2)的腔體連通,同時(shí)支撐結(jié)構(gòu)和張緊結(jié)構(gòu)將上真空腔(1)和下真空腔(2)隔離。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有避免晶圓二次翻轉(zhuǎn)180°的風(fēng)險(xiǎn)、貼膜無(wú)氣泡等優(yōu)點(diǎn)。 |





