InAs/InSb應(yīng)變超晶格材料及其制備方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210149194.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN114197055A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114197055A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
| 分類號(hào) | C30B29/68(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 黃立;魏國帥;劉永鋒;吳佳;劉芊欒;王曉碧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 武漢高芯科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京匯澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 胡建文 |
| 地址 | 430205湖北省武漢市東湖開發(fā)區(qū)黃龍山南路6號(hào)2號(hào)樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種InAs/InSb應(yīng)變超晶格材料的制備方法,包括:S1,提供一襯底;S2,在所述襯底上外延生長(zhǎng)緩沖層;S3,在所述緩沖層上外延生長(zhǎng)若干個(gè)周期的InAs/InSb超晶格結(jié)構(gòu),每個(gè)周期的InAs/InSb超晶格結(jié)構(gòu)包括InAs層和InSb層,其中,InAs層和InSb層的生長(zhǎng)采用不同的In源爐。另外,本發(fā)明還提供基于該制備方法所獲得的InAs/InSb應(yīng)變超晶格材料。本發(fā)明在InAs/InSb超晶格結(jié)構(gòu)的生長(zhǎng)過程中,采用兩個(gè)不同的In源爐,可以分別調(diào)整兩種In源的速度,使之分別適合于InAs層和較薄的InSb層的生長(zhǎng)模式,從而有效避免了生長(zhǎng)InAs/InSb超晶格時(shí)三維島狀結(jié)構(gòu)的形成,能顯著地提高InAs/InSb超晶格結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本,以及提高InAs/InSb應(yīng)變超晶格材料的質(zhì)量和性能。 |





