一種用于高解解析度的精細金屬掩模版及其制作工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110843361.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113529014A 公開（公告）日 2021-10-22
申請公布號 CN113529014A 申請公布日 2021-10-22
分類號 C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張耀輝;宗璐 申請（專利權(quán)）人 合肥聯(lián)頓恪智能科技有限公司
代理機構(gòu) 泉州企記知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 許壽寧
地址 230601安徽省合肥市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)青龍?zhí)堵樊a(chǎn)業(yè)園研發(fā)樓D1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于高解解析度的精細金屬掩模版及其制作工藝，本掩模版由聚酰亞胺原液與具有磁性的粉體混合而成。使得掩膜版在保證足夠磁性的前提下，做到重量最小，厚度最小，產(chǎn)生的彎曲形變最小，能夠?qū)崿F(xiàn)大尺寸掩膜版的制作，工藝簡單，使用方便。