一種基板加熱冷卻系統(tǒng)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202121581342.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN215209611U | 公開(公告)日 | 2021-12-17 |
| 申請公布號 | CN215209611U | 申請公布日 | 2021-12-17 |
| 分類號 | C23C14/54(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/28(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 張耀輝;宗璐 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥聯(lián)頓恪智能科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 泉州企記知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 許壽寧 |
| 地址 | 230601安徽省合肥市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)青龍?zhí)堵樊a(chǎn)業(yè)園研發(fā)樓D1 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開一種基板加熱冷卻系統(tǒng),包括真空腔體,所述真空腔體內(nèi)沿豎直方向固定連接有用于托放多個基板的支架,所述真空腔體內(nèi)安裝有對每塊基板的蒸鍍面進行加熱的加熱裝置,所述真空腔體內(nèi)還安裝有對每塊基板的非蒸鍍面進行冷卻的冷卻機構(gòu),所述冷卻機構(gòu)包括可升降的冷卻板,所述冷卻板內(nèi)具有用于盛水的夾層,所述冷卻板朝向加熱裝置的壁面上固定連接有隔熱板。本裝置結(jié)構(gòu)簡單,功能多樣,使用方便。 |





