一種蒸鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121581316.6 申請日 -
公開（公告）號 CN215050643U 公開（公告）日 2021-12-07
申請公布號 CN215050643U 申請公布日 2021-12-07
分類號 C23C14/26（2006.01）I;C23C14/04（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張耀輝;宗璐 申請（專利權）人 合肥聯(lián)頓恪智能科技有限公司
代理機構 泉州企記知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 許壽寧
地址 230601安徽省合肥市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)青龍?zhí)堵樊a(chǎn)業(yè)園研發(fā)樓D1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開一種蒸鍍裝置，包括一真空腔室，所述真空腔室內具有若干個相互獨立的工位，所述工位上轉動連接有多個蒸發(fā)源，所述蒸發(fā)源包括可加熱的容器和對容器進行加熱的電加熱器，所述工位上還具有供電件，所述供電件包括第一導電部和第二導電部，所述第一導電部和第二導電部分別與外部供電源電性連接，所述電加熱器具有與供電件保持滑動接觸和電性連接的連接部，以使同一工位上多個蒸發(fā)源轉動時，有且僅有一個蒸發(fā)源的電加熱器的連接部與第一導電部保持滑動式電性連接，有且僅有一個蒸發(fā)源的電加熱器的連接部與第二導電部保持滑動式電性連接。本裝置結構簡單，能夠實現(xiàn)連續(xù)鍍膜。