一種等離子光催化氧化廢氣除臭凈化設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821226777.X 申請日 -
公開（公告）號 CN208526311U 公開（公告）日 2019-02-22
申請公布號 CN208526311U 申請公布日 2019-02-22
分類號 B01D53/86;B01D50/00 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 李榮太;李華太;徐志勇 申請（專利權(quán)）人 濰坊市鴻泰綠洲環(huán)保設(shè)備股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京卓特專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 段宇
地址 262200 山東省濰坊市諸城市枳溝鎮(zhèn)喬莊工業(yè)園2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種等離子光催化氧化廢氣除臭凈化設(shè)備，包括初濾蓋和活性炭過濾層；所述凈化箱內(nèi)空氣流動為從左向右，最右端為出氣口，設(shè)有內(nèi)螺紋；所述等離子腔和紫外線腔相鄰設(shè)于凈化箱內(nèi)，利用等離子分解技術(shù)和紫外線光解技術(shù)對廢氣和臭氣進(jìn)行處理；所述水位傳感器設(shè)于進(jìn)氣過濾箱內(nèi)右下角，且與控制器電性連接；所述活性炭過濾層卡放于初濾蓋內(nèi)；本實(shí)用新型在對氣體進(jìn)行處理前將氣體進(jìn)行充分過濾，將氣體中的雜質(zhì)和小顆粒等進(jìn)行過濾，防止這些小顆粒隨氣流進(jìn)入到設(shè)備中影響紫外線腔內(nèi)對氣體的處理效果，本實(shí)用新型可在紫外線腔和等離子腔的作用下將廢氣和臭氣經(jīng)過處理后進(jìn)行達(dá)標(biāo)排放，減少對環(huán)境的破壞和污染。