一種飛點形成裝置及設計方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510072391.2 申請日 -
公開（公告）號 CN105987920B 公開（公告）日 2019-10-08
申請公布號 CN105987920B 申請公布日 2019-10-08
分類號 G01N23/04;G01V5/00 分類 測量；測試;
發(fā)明人 王彥華;曹艷鋒;王少鋒;劉錚 申請（專利權）人 中泰元科股份有限公司
代理機構 北京信諾創(chuàng)成知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 北京君和信達科技有限公司
地址 100011 北京市西城區(qū)黃寺大街26號院4號樓308(德勝園區(qū))
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種飛點形成裝置，包括輻射源和屏蔽體，屏蔽體為中空圓柱體，屏蔽體側壁上具有成對設置的螺旋槽，每對螺旋槽包括一個入射槽和一個出射槽，其特征在于，具有兩對螺旋槽，其中，第一入射槽的最高點和最低點分別對應輻射源射線束的最大上張角和最大下張角，第二入射槽的最高點和最低點也分別對應輻射源射線束的最大上張角和最大下張角；在屏蔽體圓周方向上，第一入射槽和第二入射槽共同占0?180°的范圍；第一出射槽和第二出射槽分別與第一入射槽和第二入射槽相對應。本發(fā)明還公開了一種飛點形成裝置設計方法。利用本發(fā)明可提高飛點形成裝置的掃描速度。