儲罐強(qiáng)制電流陰極保護(hù)控制方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910672141.0 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN110257831B | 公開（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申請公布號 | CN110257831B | 申請公布日 | 2021-04-06 |
| 分類號 | C23F13/04(2006.01)I;C23F13/22(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 高桂飛;李慧玲;孔德生;李長安;張勝國;彭明利;盧少同;姜剛;李彥剛;朱桂偉;劉珂;呂曉波;劉科;姜奉杰;鄭朋磊;李琛;付春輝;孫作輝;孫勤 | 申請（專利權(quán)）人 | 青島雅合科技發(fā)展有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 青島清泰聯(lián)信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉雁君;李祺 |
| 地址 | 266000山東省青島市市北區(qū)洛陽路11號3層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種儲罐強(qiáng)制電流陰極保護(hù)控制方法，步驟包括：初始檢測、設(shè)備運(yùn)行、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理、達(dá)標(biāo)比較、目標(biāo)比較、過保護(hù)調(diào)整計(jì)算、欠保護(hù)調(diào)整計(jì)算、正向調(diào)整計(jì)算、負(fù)向調(diào)整計(jì)算和輸出調(diào)節(jié)。本申請的儲罐強(qiáng)制電流陰極保護(hù)控制方法通過恒電位儀斷電時(shí)參比電極所測得的電位為斷電電位，消除了無法設(shè)置極化試片或極化探頭帶來的斷電電位無法檢測的問題，并且通過斷電電位作為控制依據(jù)，對恒電位儀的輸出進(jìn)行調(diào)節(jié)，能夠滿足行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求，準(zhǔn)確達(dá)到陰極保護(hù)效果。?? |
