一種真空濺射鍍膜機(jī)及其吸灰方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010507680.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111575672A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-08-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111575672A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-25 |
| 分類號(hào) | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 陸張武;於霄峰;徐勇軍;李恭劍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 浙江晶馳光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 浙江千克知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張海兵 |
| 地址 | 318001浙江省臺(tái)州市椒江區(qū)開(kāi)發(fā)大道東段2198號(hào)一期聯(lián)合廠房3樓-A | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種真空濺射鍍膜機(jī)及其吸灰方法，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。真空濺射鍍膜機(jī)包括鍍膜腔室PR?CH、搬送腔室LL?CH、開(kāi)門閥；LL?CH和PR?CH處均設(shè)有吸灰基板，或者PR?CH設(shè)有吸灰基板；吸灰基板面朝腔室內(nèi)側(cè)面設(shè)有粘灰層。當(dāng)兩個(gè)腔室均設(shè)有吸灰基板時(shí)；方法包括：將LL?CH抽氣至小于壓強(qiáng)閾值；對(duì)PR?CH進(jìn)行充氣凈化，使得PR?CH內(nèi)污染物吸附在吸灰基板上；在LL?CH完成抽氣和放氣后，停止對(duì)LL?CH抽氣，打開(kāi)開(kāi)門閥，對(duì)連通的LL?CH和PR?CH抽氣一段時(shí)間并關(guān)閉開(kāi)門閥；對(duì)LL?CH進(jìn)行充氣凈化，使得LL?CH內(nèi)污染物吸附在吸灰基板上。當(dāng)鍍膜腔室設(shè)有吸灰基板時(shí)，方法包括對(duì)PR?CH進(jìn)行充氣凈化，使得PR?CH內(nèi)污染物吸附在吸灰基板上。本發(fā)明在不開(kāi)箱清潔的條件下，對(duì)腔體內(nèi)部進(jìn)行吸灰，吸灰完成后產(chǎn)品表面質(zhì)量得到提高。?? |
