微型可編程浪涌防護器件及其制作工藝
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110813137.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113488526A | 公開(公告)日 | 2021-10-08 |
| 申請公布號 | CN113488526A | 申請公布日 | 2021-10-08 |
| 分類號 | H01L29/06;H01L21/82 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 張興杰;程萬坡;卜程德;王榮元 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇韋達(dá)半導(dǎo)體有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 陳棟智 |
| 地址 | 225000 江蘇省揚州市邗江區(qū)科技園路8號8 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種微型可編程浪涌防護器件及其制作工藝,包括以下步驟:在N型單晶硅片的背面擴散一層濃磷;在高溫下進(jìn)行濃磷再擴散,形成器件內(nèi)二極管的陰極區(qū)和三極管的集電區(qū);在硅片正面進(jìn)行液態(tài)硼源擴散,形成一定深度的二極管補硼區(qū);通過離子注入硼對三極管的基區(qū)進(jìn)行摻雜;通過正面液態(tài)硼源擴散在正面形成晶閘管的短基區(qū)以及三極管的基區(qū)補硼區(qū);在三極管基區(qū)上通過離子注入磷形成三極管的發(fā)射區(qū);正面光刻出引線窗口,同時在邊緣開出劃片槽;通過LPCVD在表面沉積一層多晶硅;光刻刻出引線孔;正、背面金屬化后,得到芯片;本發(fā)明制得的芯片具有小型化、防浪涌能力高、成本低、可靠性高等優(yōu)點。 |





