一種微機電系統(tǒng)結(jié)構(gòu)及其制作方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111512073.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114148984A | 公開(公告)日 | 2022-03-08 |
| 申請公布號 | CN114148984A | 申請公布日 | 2022-03-08 |
| 分類號 | B81B3/00(2006.01)I;B81B7/00(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I;B81C3/00(2006.01)I | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
| 發(fā)明人 | 郭亞;劉堯青;儲莉玲;金羊華 | 申請(專利權(quán))人 | 美新半導(dǎo)體(天津)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 蘇州簡理知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 龐聰雅 |
| 地址 | 300450天津市自貿(mào)試驗區(qū)(空港經(jīng)濟區(qū))西三道158號金融中心4-501室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種微機電系統(tǒng)結(jié)構(gòu)及其制作方法,所述微機電系統(tǒng)結(jié)構(gòu)包括:第一半導(dǎo)體圓片,其設(shè)置有第一空腔、CMOS電路和防護層,第一空腔設(shè)置于第一半導(dǎo)體圓片的正面,CMOS電路設(shè)置于第一半導(dǎo)體圓片內(nèi)且位于第一空腔的下方,防護層位于第一空腔的底部且位于所述CMOS電路的上方;第二半導(dǎo)體圓片,其為傳感器的微機電系統(tǒng)單元,其包括固定結(jié)構(gòu)、可移動結(jié)構(gòu)和溝槽,第二半導(dǎo)體圓片與第一半導(dǎo)體圓片的正面相鍵合,第一空腔與可移動結(jié)構(gòu)相對;第三半導(dǎo)體圓片,其與第二半導(dǎo)體圓片的背面相鍵合,第三半導(dǎo)體圓片的正面與第二半導(dǎo)體圓片的可移動結(jié)構(gòu)的相對位置處設(shè)置有第二空腔。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明能夠有效防止或減少PID的產(chǎn)生,以對CMOS電路進行保護。 |





