一種銀的細微圖形化蝕刻方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010242731.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113463099A | 公開(公告)日 | 2021-10-01 |
| 申請公布號 | CN113463099A | 申請公布日 | 2021-10-01 |
| 分類號 | C23F1/30(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 盧虎賁;李珍;范海文;李弋舟 | 申請(專利權)人 | 長沙韶光鉻版有限公司 |
| 代理機構 | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 | 代理人 | 馬強 |
| 地址 | 410129湖南省長沙市芙蓉區(qū)長榔路88號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種銀的細微圖形化蝕刻方法,包括拋光、清潔、鍍氧化膜/銀、旋涂光刻膠、分別用第1道的銀蝕刻液和第2道銀蝕刻液進行蝕刻、經(jīng)去膠液清洗得到Ag金屬網(wǎng)格。本發(fā)明工藝簡單,可以得到線徑小于5um的銀圖案,對銀的蝕刻均勻,圖形化線性度高,所得銀金屬網(wǎng)格附著好,網(wǎng)格不易發(fā)生漂移。 |





