含硅偶聯(lián)劑共聚物成膜樹脂及其有機防反射涂膜

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200610039656.X 申請日 -
公開（公告）號 CN1847274A 公開（公告）日 2006-10-18
申請公布號 CN1847274A 申請公布日 2006-10-18
分類號 C08F220/10(2006.01);C09D133/04(2006.01);G03F7/11(2006.01) 分類 有機高分子化合物；其制備或化學加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 冉瑞成;沈吉;莊學軍 申請（專利權）人 中愷投資有限公司
代理機構 蘇州創(chuàng)元專利商標事務所有限公司 代理人 蘇州華飛微電子材料有限公司;中愷投資有限公司
地址 215011江蘇省蘇州市蘇州新區(qū)靈巖街16號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種含硅偶聯(lián)劑共聚物成膜樹脂以及利用該樹脂配制而成的用于以KrF激光(248nm)、ArF激光(193nm)或者F2激光(157nm)為曝光光源的微電子光刻工藝中的有機底部防反射涂膜組合物。本發(fā)明成膜樹脂主要由含硅丙烯酸酯類偶聯(lián)劑單體1－40份重量和含吸光基團丙烯酸酯類單體20－80份重量，在自由基引發(fā)劑存在的條件下，通過在溶劑中進行共聚合反應以及相應的后處理制備而成。這種成膜樹脂與穩(wěn)定劑、流平劑等少量添加劑在溶劑中配制成防反射涂膜膠液。本方案利用含硅丙烯酸酯偶聯(lián)劑既可以參與具有高吸光性的單體的共聚合形成具有良好的防反射性能的共聚物，也可以在加熱情況下進行交聯(lián)反應的特性，避免了在光刻過程中光刻膠底層與硅片之間的衍射與反射對光刻圖形質量所帶來的影響，獲得了更好的光刻圖形。