一種無取向硅鋼涂層噴涂裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023026974.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215354406U 公開（公告）日 2021-12-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN215354406U 申請(qǐng)公布日 2021-12-31
分類號(hào) B05C9/04（2006.01）I;B05C5/00（2006.01）I;B05C1/08（2006.01）I;B05C11/10（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 霍立杰;武原野;謝宇;胡志遠(yuǎn);張紅波;任佳杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 首鋼智新遷安電磁材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 代理人 房德權(quán)
地址 064400河北省唐山市遷安市西部工業(yè)區(qū)兆安街025號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種無取向硅鋼涂層噴涂裝置，屬于冶金行業(yè)涂層技術(shù)領(lǐng)域，包括上涂輥和下涂輥，所述上涂輥一側(cè)設(shè)有上噴淋管，下涂輥一側(cè)設(shè)有下噴淋管，在上涂輥和下涂輥間的水平面上方設(shè)置一個(gè)傾斜擋板，所述上噴淋管對(duì)準(zhǔn)傾斜擋板，下噴淋管對(duì)準(zhǔn)下涂輥，所述下涂輥下方設(shè)置一個(gè)涂液收集槽，下涂輥部分置于涂液收集槽中，涂液收集槽底板設(shè)有涂液回流口，所述涂液收集槽通過一個(gè)升降裝置調(diào)節(jié)自身高度。該裝置穩(wěn)定性好，可靠性高，能夠有效保證無取向硅鋼下表面涂層質(zhì)量，避免出現(xiàn)漏涂或者涂層條紋缺陷，提高無取向硅鋼涂層質(zhì)量。