一種半導體廠房潔凈室

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010108859.X 申請日 -
公開（公告）號 CN111305612A 公開（公告）日 2021-07-06
申請公布號 CN111305612A 申請公布日 2021-07-06
分類號 E04H5/02;F24F7/007;F24F13/28;B08B5/02 分類 建筑物;
發(fā)明人 王峻毅;洪震 申請（專利權）人 上海振南工程咨詢監(jiān)理有限責任公司
代理機構 - 代理人 -
地址 201700 上海市青浦區(qū)金澤鎮(zhèn)練西路2725號-Q2
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種半導體廠房潔凈室，涉及潔凈室技術領域，包括有潔凈工作室，且潔凈工作室內(nèi)設置有送風系統(tǒng)、回風系統(tǒng)和過濾系統(tǒng)，潔凈工作室包括有潔凈作業(yè)區(qū)和加工服務區(qū)，且潔凈作業(yè)區(qū)與加工服務區(qū)之間設置有分隔區(qū)；分隔區(qū)包括有垂直送風區(qū)和水平送風區(qū)，垂直送風區(qū)和水平送風區(qū)分別形成有縱向氣流墻和橫向氣流墻，且縱向氣流墻與橫向氣流墻之間形成有間隔區(qū)間。潔凈作業(yè)區(qū)內(nèi)設置有矢量送風系統(tǒng)和單向送風系統(tǒng)，加工服務區(qū)內(nèi)設置有亂流送風系統(tǒng)。潔凈作業(yè)區(qū)和加工服務區(qū)通過兩者中間的分隔區(qū)以及各自獨立的送風系統(tǒng)、回風系統(tǒng)以及過濾系統(tǒng)，達到限制亂流或者渦流出現(xiàn)的目的，進而達到提高潔凈室內(nèi)空氣潔凈度的目的。