低柵漏電容的縱向場效應(yīng)晶體管
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201720207029.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN206490067U | 公開(公告)日 | 2017-09-12 |
| 申請公布號(hào) | CN206490067U | 申請公布日 | 2017-09-12 |
| 分類號(hào) | H01L29/423(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 胡欣 | 申請(專利權(quán))人 | 上海矽望電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海大視知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 上海矽望電子科技有限公司;張帥;黃昕;濟(jì)南安海半導(dǎo)體有限公司 |
| 地址 | 200093 上海市楊浦區(qū)周家嘴路3805號(hào)3128室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種采用了該實(shí)用新型的低柵漏電容的縱向場效應(yīng)晶體管,屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。采用該結(jié)構(gòu)的低柵漏電容的縱向場效應(yīng)晶體管,由于其襯底的頂部形成有凸出于襯底頂部的厚柵氧區(qū),并在該厚柵氧區(qū)之上形成有作為柵極的多晶硅,從而利用該厚柵氧區(qū)增加了柵漏電容介質(zhì)層的厚度,同樣的還可以進(jìn)一步減少柵極與漏極覆蓋區(qū)域的面積,減小柵漏電容,降低開關(guān)損耗,提升場效應(yīng)晶體管的性能,進(jìn)而使本實(shí)用新型的低柵漏電容的縱向場效應(yīng)晶體管更適用于高頻應(yīng)用,且該低柵漏電容的縱向場效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)簡單,制造方法簡便,生產(chǎn)及應(yīng)用成本也較為低廉。 |





