納米材料輻射干燥設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210273621.1 申請日 -
公開（公告）號 CN114608297A 公開（公告）日 2022-06-10
申請公布號 CN114608297A 申請公布日 2022-06-10
分類號 F26B17/00（2006.01）I;F26B3/28（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I;F26B23/06（2006.01）I;F26B25/00（2006.01）I 分類 干燥;
發(fā)明人 康翠萍 申請（專利權(quán)）人 寶雞文理學(xué)院
代理機(jī)構(gòu) 陜西銘一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 721007陜西省寶雞市高新大道1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及輻射干燥設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為納米材料輻射干燥設(shè)備，包括干燥箱體、進(jìn)風(fēng)盒、UV?LED光源體和導(dǎo)料框，所述干燥箱體內(nèi)部呈空腔狀，所述干燥箱體左側(cè)表面靠近干燥箱體上表面處設(shè)置有進(jìn)料口，所述干燥箱體右側(cè)表面靠近干燥箱體底部處設(shè)置有排料口，所述進(jìn)風(fēng)盒固定于干燥箱體的上表面，所述干燥箱體內(nèi)頂壁表面對稱固定有兩組安裝板，所述UV?LED光源體對應(yīng)等距固定于安裝板的下表面，所述導(dǎo)料框傾斜設(shè)置于干燥箱體內(nèi)部。本發(fā)明中納米材料沿著導(dǎo)料框內(nèi)表面可均勻的下滑，通過限位板增加了納米材料下滑的導(dǎo)程，進(jìn)而延長了納米材料的干燥時(shí)間，通過UV?LED光源體可對納米材料進(jìn)行徹底的輻射干燥，進(jìn)而使得納米材料干燥的更加均勻徹底。