矢量字符筆畫填充優(yōu)化方法

基本信息

申請?zhí)?/td> 2020112114935 申請日 -
公開（公告）號 CN112287637A 公開（公告）日 2021-01-29
申請公布號 CN112287637A 申請公布日 2021-01-29
分類號 G06F40/109(2020.01)I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 劉飛揚;崔瀚之 申請（專利權）人 深圳高通半導體有限公司
代理機構 深圳市康弘知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 尹彥
地址 518000廣東省深圳市福田區(qū)沙頭街道天安社區(qū)泰然四路泰然科技園210棟4G03
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種矢量字符筆畫填充優(yōu)化方法。定義一個數(shù)據(jù)表示單位的長度為16個二進制位的總位長,并以定義的數(shù)據(jù)表示單位來表示矢量字符的單個閉環(huán)筆畫輪廓，有利于橫向掃描筆畫輪廓過程中更準確地分析出筆畫輪廓坐標點的位置，從而在橫向填充筆畫輪廓左右邊界點中間區(qū)域時盡可能地還原字符，達到了等同去除縱向分析填充的效果，解決了對嵌入式主控性能的依賴問題，同時減少了RAM資源的占用；采用包含一個數(shù)據(jù)表示單位信息的掩碼值，在填充字符筆畫時，一方面可以避免臨時存儲的問題，大大壓縮了RAM的資源使用情況，另一方面可以減少填充次數(shù)，提高代碼執(zhí)行的效率，提升了用戶體驗感。該優(yōu)化方法對于大字號矢量字符筆畫填充同樣有較大實用效果。??