磨料漿體射流切割用的漿料及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN200410066757.7 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN100333878C | 公開(公告)日 | 2007-08-29 |
| 申請公布號 | CN100333878C | 申請公布日 | 2007-08-29 |
| 分類號 | B24C11/00(2006.01) | 分類 | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 俞濤;劉林生;劉小健;王文斌 | 申請(專利權(quán))人 | 上海上大集仁水射流技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海上大專利事務(wù)所 | 代理人 | 何文欣 |
| 地址 | 200072上海市閘北區(qū)延長路149號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種磨料漿體射流切割用的漿料及其制備方法。本漿料由磨料、介質(zhì)液體和添加劑組成。其原料組成及按重量計(jì)配比為:磨料:石榴石、或石英砂、或棕剛玉等3克~70克,介質(zhì)液體:水100克,添加劑:膨潤土3.85克~20克。本漿料的制備方法采用物理配制方法,先將磨料與膨潤土干性攪拌,混合均勻,然后將此混合料與水?dāng)嚢杌旌暇鶆?。本漿料結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,不易發(fā)生化學(xué)變化,更適于高速射流切割;能重復(fù)使用;節(jié)省切割漿料耗費(fèi);本漿料無毒、無味、不發(fā)霉腐臭,符合環(huán)保要求;原料資源豐富;制備設(shè)備簡單,操作工藝方便。 |





