一種印刷電路板勻液處理裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110304346.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113038723A | 公開(公告)日 | 2021-06-25 |
| 申請公布號 | CN113038723A | 申請公布日 | 2021-06-25 |
| 分類號 | H05K3/06 | 分類 | 其他類目不包含的電技術; |
| 發(fā)明人 | 莊春生;王其富;安浩平;楊杰;吳洋 | 申請(專利權)人 | 河南省科學院應用物理研究所有限公司 |
| 代理機構 | 鄭州宏海知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 李曉 |
| 地址 | 450000 河南省鄭州市金水區(qū)政六街22號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種印刷電路板勻液處理裝置,包括支撐板和噴頭支架,噴頭支架的中心設有第一噴嘴,噴頭支架上還設有以第一噴嘴的中心軸線為中心自內至外布置的多組第二噴嘴;本申請通過在噴頭支架上設置位于中心且垂直待處理電路板的第一噴嘴,及多個在噴頭支架上自內至外沿圓周同向傾斜布置的第二噴頭,第一噴嘴、第二噴嘴均通過噴頭支架內的連通腔連通,經(jīng)噴頭支架上的接頭進入噴頭支架的液體通過第一噴嘴和多個第二噴嘴向待處理電路板噴射,噴頭支架上的此種噴頭布置使得待處理電路板中心流速較快而邊緣流速較慢,由此可提高顯影液、蝕刻液向處理電路板邊緣流動的速度,減少水池效應及蝕刻速率的差異性,實現(xiàn)整板的均勻顯影、蝕刻。 |





