酸性蝕刻液電解多組分添加劑
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201410309155.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN104152944B | 公開(公告)日 | 2017-04-26 |
| 申請公布號 | CN104152944B | 申請公布日 | 2017-04-26 |
| 分類號 | C25C1/12(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市新銳思環(huán)保科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市神州聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 深圳市新銳思環(huán)??萍加邢薰?/td> |
| 地址 | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)西鄉(xiāng)街道G107國道西鄉(xiāng)段鶴洲立交世紀車城西側(cè)中拓環(huán)保大廈一樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種酸性蝕刻液電解多組分添加劑,由以下成份按照質(zhì)量配比組成:光亮劑和整平劑1~3%;表面活性劑5~10%;溶劑87~96%。本發(fā)明提供的添加劑,在光亮劑和整平劑協(xié)同作用下,能顯著增大陰極銅極化作用,通過吸附作用阻化銅電沉積過程,影響銅晶體生長,使銅電積層晶粒顯著細化,同時電解液分散能力增大,降低低電流區(qū)電阻,幫助低電流區(qū)的銅增長,改善低電流區(qū)的光亮度和平整性;而表面活性劑降低金屬基體的表面張力,使添加劑易于吸附,且增加溶液分散性,溶液分布均勻,減少陰極銅分支及顆粒凸點產(chǎn)生。因此,在添加劑的光亮劑和整平劑以及表面活性劑的作用下,產(chǎn)生的陰極銅成板狀、光亮性好、結(jié)構(gòu)致密平整,純度高。 |





