一種激光蝕刻機真空吸附設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121231837.9 申請日 -
公開（公告）號 CN214921445U 公開（公告）日 2021-11-30
申請公布號 CN214921445U 申請公布日 2021-11-30
分類號 B23K26/362（2014.01）I;B23K26/142（2014.01）I;B23K26/70（2014.01）I 分類 機床；不包含在其他類目中的金屬加工;
發(fā)明人 陳剛;袁聰;汪偉 申請（專利權(quán)）人 湖北吉事達科技有限公司
代理機構(gòu) 武漢仁合利泰專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 鄒航
地址 432000湖北省孝感市國家高新技術(shù)開發(fā)區(qū)孝漢大道57號上海產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種激光蝕刻機真空吸附設(shè)備包括加工箱，所述加工箱的內(nèi)壁頂端固定連接有第一滑動槽，所述第一滑動槽通過第一滑動板滑動連接有第二液壓桿，所述第二液壓桿的底端固定連接有第二金屬板，所述第二金屬板的下表面中心處設(shè)置有激光蝕刻器，所述第二金屬板的下表面左右兩側(cè)分別固定連接有按壓機構(gòu)，所述第二金屬板的下表面外側(cè)固定連接有保護管，所述保護管的底端固定連接有第一緩沖墊。本實用新型通過設(shè)置有真空泵和排氣扇，可以通過排氣扇將激光蝕刻處理過程中產(chǎn)生的碎屑進行位置改變，并通過設(shè)置有真空泵和集塵箱，可以在激光蝕刻處理過程中對碎屑進行收集，從而增加了工作效率，繼而方便了工作人員的使用。