一種紫外LED芯片及其制備方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811623230.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN109742210A | 公開(公告)日 | 2019-05-10 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109742210A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-05-10 |
| 分類號(hào) | H01L33/46(2010.01)I; H01L33/00(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 王鋼; 陳偉驅(qū); 練海嘯; 陳梓敏; 馬學(xué)進(jìn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣州和光同盛科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州圣理華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 中山大學(xué); 廣州和光同盛科技有限公司 |
| 地址 | 510260 廣東省廣州市海珠區(qū)新港西路135號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種紫外LED芯片,由上至下依次為混合濾波片、襯底、緩沖層、n型半導(dǎo)體層、MQW有源層、p型半導(dǎo)體層、透明電流層、紫外DBR層以及金屬對(duì)稱電極;所述混合濾波片是由兩個(gè)中心波長(zhǎng)不同的帶通濾波片組成,所述帶通濾波片是由TiO2、SiO2交替疊加,周期性排列組成的多層膜;所述紫外DBR層的材料是由SiO2、Ta2O5組成;所述金屬對(duì)稱電極為p型電極和n型電極,所述金屬對(duì)稱電極由Cr、Al、Ni、Ti、Pt、Au組成。本發(fā)明解決了目前紫外LED芯片中,ITO薄膜對(duì)紫外光有強(qiáng)吸收、紫外光的萃取效率低下以及熒光粉的利用效率不高的問(wèn)題。 |





