一種自適應結(jié)構(gòu)光投射模組及測量方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010073730.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN111174702B | 公開(公告)日 | 2022-03-15 |
| 申請公布號 | CN111174702B | 申請公布日 | 2022-03-15 |
| 分類號 | G01B11/00(2006.01)I;G01B11/22(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
| 發(fā)明人 | 程進;孫其梁;徐乃濤;李宋澤 | 申請(專利權(quán))人 | 無錫微視傳感科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 江蘇漫修律師事務所 | 代理人 | 平梁良 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市錫山區(qū)錫山經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)二泉東路19號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種自適應結(jié)構(gòu)光投射模組及測量方法,投射模組包括激光器、透鏡單元和MEMS微鏡,透鏡單元位于激光器和MEMS微鏡之間;所述MEMS微鏡連接驅(qū)動控制系統(tǒng),驅(qū)動控制系統(tǒng)用于控制激光器和MEMS微鏡,產(chǎn)生不同的投射圖案;還包括外置采樣相機和處理器,處理器分析光信號并計算光強補償值,并反饋給驅(qū)動控制系統(tǒng),控制激光器發(fā)射的實時光強。本發(fā)明利用外置采樣相機對待測物體反射后形成的不均勻光信號進行預采集,分析其不同位置的光強分布,再由處理器計算光強補正值,實時控制光源的光強,適當增強低反射率區(qū)域的光強值、減弱高反射率區(qū)域的光強值,得到光強均勻的反射光條,從而實現(xiàn)結(jié)構(gòu)光的光強自適應,有利于準確提取光條中心,提高數(shù)據(jù)精度。 |





