一種高通量薄膜的制備裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110135614.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112962068A 公開（公告）日 2021-06-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN112962068A 申請(qǐng)公布日 2021-06-15
分類號(hào) C23C14/34（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 尹彬;張慶釗 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京中科泰龍電子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京高沃律師事務(wù)所 代理人 張德才
地址 100029北京市朝陽(yáng)區(qū)北土城西路3號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種高通量薄膜的制備裝置及方法，涉及高通量薄膜制備裝置技術(shù)領(lǐng)域，主要結(jié)構(gòu)包括樣品臺(tái)、多個(gè)濺射靶、縱向擋板和橫向擋板；樣品臺(tái)設(shè)置于多個(gè)濺射靶的中部，并與多個(gè)濺射靶相隔一定距離；縱向擋板和橫向擋板設(shè)置于樣品臺(tái)與多個(gè)濺射靶之間；縱向擋板和橫向擋板均可沿水平方向平移，縱向擋板和橫向擋板的移動(dòng)方向相垂直?？v向擋板和橫向擋板上分別設(shè)有一鏤空孔，通過(guò)調(diào)整縱向擋板和橫向擋板的位置，使兩個(gè)鏤空孔的交叉點(diǎn)處于樣品臺(tái)的不同區(qū)域，并通過(guò)改變各濺射靶的濺射功率，從而在樣品臺(tái)上不同區(qū)域?yàn)R射出不同成分的鍍膜，從而對(duì)裝置內(nèi)部一次抽真空即可完成多個(gè)樣品的制備，縮短了制備樣品所需的時(shí)間，從而提高材料的研發(fā)速度。