光電元件氦質(zhì)譜檢漏方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911056473.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN110631774B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-02-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110631774B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-26 |
| 分類(lèi)號(hào) | G01M3/20(2006.01)I | 分類(lèi) | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 謝少華;陳開(kāi)帆;胡靖;劉貽遠(yuǎn);黃黎明 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 武漢東飛凌科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 周偉鋒 |
| 地址 | 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)流芳園南路9號(hào)光谷電子工業(yè)園3號(hào)廠房2樓2-201室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種光電元件氦質(zhì)譜檢漏方法，包括以下步驟：S01、將盛載有待檢光電元件的第一料盤(pán)放入第一真空容器內(nèi)；S02、向第一真空容器內(nèi)注入氦氣，并進(jìn)行密封保壓；S03、從第一真空容器內(nèi)取出第一料盤(pán)；S04、將待檢光電元件整體轉(zhuǎn)移至第二料盤(pán)上；S05、將第二料盤(pán)放入第二真空容器內(nèi)；S06、對(duì)第二真空容器抽真空，并利用氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)第二真空容器內(nèi)的氣體進(jìn)行檢測(cè)分析。本發(fā)明采用了第二料盤(pán)，通過(guò)第二料盤(pán)將第一料盤(pán)上的待檢光電元件一次性地轉(zhuǎn)移，并且盛載待檢光電元件放入第二真空容器進(jìn)行氦質(zhì)譜檢漏，從而有效地解決了氦質(zhì)譜檢漏時(shí)光電元件需要零散地放入檢漏罐的技術(shù)問(wèn)題，確保了氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏的準(zhǔn)確性，提高了光電元件的檢漏效率。?? |
