硅外延爐裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202220028150.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN216514254U | 公開（公告）日 | 2022-05-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216514254U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-13 |
| 分類號(hào) | C30B25/08（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I;C30B25/10（2006.01）I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 高勇;薛宏偉;袁肇耿;仇根忠;吳子凡;杜雷雨;魏桂忠;任永升 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 河北普興電子科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 石家莊國為知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 | 代理人 | - |
| 地址 | 050200河北省石家莊市鹿泉經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)昌盛大街21號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種硅外延爐裝置，所述硅外延爐裝置包括殼體、石墨基座、保溫隔熱托盤、加熱器、旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)以及轉(zhuǎn)接件，所述殼體外周環(huán)設(shè)有冷卻水結(jié)構(gòu)，具有反應(yīng)腔，所述殼體上設(shè)有進(jìn)氣孔、出氣孔以及第一穿孔，所述石墨基座轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在所述反應(yīng)腔內(nèi)，所述保溫隔熱托盤位于所述石墨基座與所述殼體之間并與所述石墨基座間隔設(shè)置，所述加熱器用于對(duì)所述石墨基座進(jìn)行加熱，所述旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)包括電機(jī)和旋轉(zhuǎn)軸，所述電機(jī)位于所述反應(yīng)腔外，所述旋轉(zhuǎn)軸與所述電機(jī)輸出軸相連并通過所述轉(zhuǎn)接件連接所述石墨基座。本實(shí)用新型提供的硅外延爐裝置可大幅降低能耗。 |
