一種微波化學氣相沉積金剛石裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202120949481.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN216074027U | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
| 申請公布號 | CN216074027U | 申請公布日 | 2022-03-18 |
| 分類號 | C23C16/27(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 李志榮;牛二輝;馮曉庭 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東匯成真空科技股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 廣州知友專利商標代理有限公司 | 代理人 | 周克佑 |
| 地址 | 523838廣東省東莞市大嶺山鎮(zhèn)顏屋龍園路2號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開了一種微波化學氣相沉積金剛石裝置,其包括一真空反應(yīng)室,真空反應(yīng)室的腔體的頂部設(shè)有外接微波波導管的石英玻璃窗口、以及供入反應(yīng)氣的開孔環(huán)形氣道,腔體內(nèi)設(shè)有可升降的試樣臺,腔體固定在腔體固定板上,其特征是:所述試樣臺也設(shè)有供入反應(yīng)氣的開孔環(huán)形氣道。本實用新型在反應(yīng)室下方的試樣臺下面增設(shè)有環(huán)形氣道布氣,在靠近金剛石生長區(qū)近距離補充新鮮反應(yīng)氣體,可獲得更多更具活性的初生碳,更有利于提高金剛石生長速率和定好率;且增設(shè)的布氣結(jié)構(gòu)為在原有設(shè)備的水冷盤上方只增加一只工件盤進氣板、連接穿過水冷盤升降軸內(nèi)腔增置的供氣管,再外接送氣嘴便可實現(xiàn)。結(jié)構(gòu)簡易、造價低。 |





