光場成像系統(tǒng)、處理方法和裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010182173.5 申請日 -
公開（公告）號 CN112750156A 公開（公告）日 2021-05-04
申請公布號 CN112750156A 申請公布日 2021-05-04
分類號 G06T7/557 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 李浩天;丁俊飛 申請（專利權(quán)）人 奕目（上海）科技有限公司
代理機構(gòu) 上海段和段律師事務(wù)所 代理人 李佳俊
地址 201109 上海市閔行區(qū)劍川路951號1幢1103室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種光場成像系統(tǒng)，光場成像系統(tǒng)的圖像處理單元對于被測物體圖像的處理過程包括以下步驟：A1，通過所述光場相機獲取被測物體多視角圖像；A2，基于極限約束原理和多視角圖像，生成一系列外極線圖像EPI；A3，初始化視差范圍和標(biāo)簽數(shù)，對外極線圖像EPI進行邊緣檢測，計算EPI斜率；A4，對全部外極線圖像EPI的斜率進行后處理，獲得視差標(biāo)簽圖；A5，統(tǒng)計視差標(biāo)簽圖中標(biāo)簽的頻率分布直方圖并進行濾波；A6，對直方圖進行高斯擬合，依據(jù)正態(tài)分布的3δ原則重新確定視差范圍；A7，如果重新確定的視差范圍包含在原視差范圍內(nèi)，則更新視差范圍，否則輸出原視差范圍作為最終結(jié)果。