一種化學氣相沉積石墨烯的系統(tǒng)提取裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201821730903.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN209260198U | 公開(公告)日 | 2019-08-16 |
| 申請公布號 | CN209260198U | 申請公布日 | 2019-08-16 |
| 分類號 | C23C16/26;C01B32/186 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 李莉莉 | 申請(專利權)人 | 陜西興漢瀾墨科技有限公司 |
| 代理機構 | 西安永生專利代理有限責任公司 | 代理人 | 李莉莉;陜西省興漢瀾墨科技有限公司;陜西興漢瀾墨科技有限公司 |
| 地址 | 717400 陜西省延安市安塞區(qū)真武洞街道辦事處湯河行政村柳溝村005號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種化學氣相沉積石墨烯的系統(tǒng)提取裝置,主要包括反應系統(tǒng)裝置、過濾系統(tǒng)裝置、尾氣處理系統(tǒng)裝置和冷卻系統(tǒng)裝置。過濾系統(tǒng)裝置、尾氣處理系統(tǒng)裝置和冷卻系統(tǒng)裝置均與反應系統(tǒng)裝置相連通。本實用新型有效解決了石墨烯提取過程中不能實現連續(xù)化、規(guī)?;头磻矚馓幚聿划數膯栴}。與此同時,解決墨烯提取過程中酸與催化劑反應不完全和雜質離子殘留的問題,可推廣應用到石墨烯提取設備或裝置領域。 |





