一種缺陷檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111045437.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113763355A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-12-07 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113763355A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-07 |
| 分類號(hào) | G06T7/00(2017.01)I;G06T7/11(2017.01)I;G06T7/50(2017.01)I;G06T7/73(2017.01)I | 分類 | 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 張發(fā)恩;李鍇瑩;刁曉淳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 創(chuàng)新奇智(青島)科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 唐正瑜 |
| 地址 | 266200山東省青島市即墨市通濟(jì)新經(jīng)濟(jì)區(qū)九江路17號(hào)A1-9 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N缺陷檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。方法包括:獲取待檢測(cè)對(duì)象的待識(shí)別圖像和深度圖像;所述待檢測(cè)對(duì)象在所述待識(shí)別圖像和所述深度圖像中所占的像素點(diǎn)位置相同;將所述待識(shí)別圖像輸入缺陷檢測(cè)模型中,獲得所述缺陷檢測(cè)模型輸出的缺陷區(qū)域;根據(jù)所述深度圖像確定所述缺陷區(qū)域中的像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的深度信息;根據(jù)所述深度信息獲得缺陷檢測(cè)結(jié)果。本申請(qǐng)實(shí)施例通過(guò)對(duì)待檢測(cè)對(duì)象進(jìn)行圖像采集,并對(duì)圖像進(jìn)行缺陷識(shí)別,在確定缺陷區(qū)域后,利用缺陷區(qū)域?qū)?yīng)的深度圖獲得深度信息,最后根據(jù)深度信息確定是否是目標(biāo)缺陷。本申請(qǐng)實(shí)施例通過(guò)對(duì)圖像進(jìn)行處理實(shí)現(xiàn)缺陷的檢測(cè),并結(jié)合深度信息確定目標(biāo)缺陷,提高了檢測(cè)缺陷的效率。 |





