一種等離子體設(shè)備主機(jī)及氣相沉積系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202023340263.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN214168123U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-09-10 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214168123U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-09-10 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C16/511（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 季宇;劉文科;季天仁 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 成都紐曼和瑞微波技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京卓恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 孔鵬 |
| 地址 | 610000四川省成都市成華區(qū)龍?zhí)犊偛拷?jīng)濟(jì)城華冠路192號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種等離子體設(shè)備主機(jī)及微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，屬于微波技術(shù)領(lǐng)域。上述等離子體設(shè)備主機(jī)包括機(jī)架、真空腔基座、腔蓋及升降裝置；真空腔基座與機(jī)架連接，真空腔基座的中部設(shè)置有樣品基片臺(tái)；腔蓋能夠與真空基座進(jìn)行密封配合。升降裝置的底部與機(jī)架連接，上部與腔蓋連接，升降裝置能夠帶動(dòng)腔蓋上下移動(dòng)。使用時(shí)，通過(guò)操作升降裝置起吊或下降，從而將腔蓋打開(kāi)或扣合在真空腔基座上。采用上述升降裝置后，其不僅提高了工作效率，還降低了操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度。 |
