一種樣品托、樣品托組件及等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120203772.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214383795U 公開(kāi)（公告）日 2021-10-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN214383795U 申請(qǐng)公布日 2021-10-12
分類(lèi)號(hào) C23C16/458（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃春林;胡宗義;季宇 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 成都紐曼和瑞微波技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京卓恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 孔鵬
地址 610000四川省成都市成華區(qū)龍?zhí)犊偛拷?jīng)濟(jì)城華冠路192號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種樣品托、樣品托組件及等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備，屬于等離子體設(shè)備領(lǐng)域。樣品托組件包括基底及樣品托，基體上設(shè)置有安裝凹槽，樣品托固定設(shè)置在安裝凹槽中。上述樣品托包括一體成型的樣品托本體及導(dǎo)熱凸臺(tái)，導(dǎo)熱凸臺(tái)設(shè)置在樣品托本體的底面。使用時(shí)，導(dǎo)熱凸臺(tái)與基底直接或間接接觸。由于樣品托中心溫度高于邊緣溫度，而樣品托中心的熱量可以通過(guò)導(dǎo)熱凸臺(tái)傳遞到基底上，進(jìn)而提高樣品托的溫度均勻性，提高固態(tài)膜的品質(zhì)。