電鍍裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202121040140.3 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN215947447U | 公開（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申請公布號 | CN215947447U | 申請公布日 | 2022-03-04 |
| 分類號 | C25D17/20（2006.01）I;C25D7/00（2006.01）I | 分類 | 電解或電泳工藝；其所用設備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 陸亨;卓金麗;薛趙茹 | 申請（專利權）人 | 廣東風華高新科技股份有限公司 |
| 代理機構 | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 | 代理人 | 顏希文;宋亞楠 |
| 地址 | 526000廣東省肇慶市風華路18號風華電子工業(yè)城 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型涉及電子元件技術領域，公開了一種電鍍裝置，包括滾筒本體和活動蓋板，所述滾筒本體的內部具有容納腔體，所述活動蓋板設于容納腔體內，所述滾筒本體的外側面開設有與所述容納腔體相連通的開口，所述活動蓋板蓋設于所述開口且其一側與所述滾筒本體轉動連接。本實用新型可以穩(wěn)定地進行小尺寸貼片元件的滾鍍，解決了貼片元件容易漏出以及電鍍液流通困難的問題，能獲得良好的鍍層質量和提高電鍍效率。 |
