一種微透鏡陣列的制備方法及晶圓

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110826074.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113419301A 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN113419301A 申請公布日 2021-09-21
分類號 G02B3/00（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I;H01S5/02253（2021.01）I;H01S5/183（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 焦繼偉;陳思奇 申請（專利權(quán)）人 上海芯物科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京晉德允升知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王戈;鄭玢
地址 201800上海市嘉定區(qū)皇慶路333號3幢北樓3層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本說明書實施例公開了一種微透鏡陣列的制備方法，用于在晶圓表面制備微透鏡陣列，包括：在所述晶圓表面形成SU?8光刻膠層；在所述SU?8光刻膠層的表面形成正性光刻膠微柱陣列；對所述正性光刻膠微柱陣列進(jìn)行熱回流處理，以在所述SU?8光刻膠層的表面形成非球面形狀結(jié)構(gòu)陣列，所述非球面形狀結(jié)構(gòu)陣列作為所述SU?8光刻膠層的刻蝕掩膜；對所述SU?8光刻膠層和所述非球面形狀結(jié)構(gòu)陣列進(jìn)行刻蝕，直至去除所述非球面形狀結(jié)構(gòu)陣列，以將所述非球面形狀結(jié)構(gòu)陣列的形狀轉(zhuǎn)移至所述SU?8光刻膠層的表面上，從而在所述晶圓表面形成SU?8材質(zhì)的微透鏡陣列。