一種半導(dǎo)體清洗設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911377428.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111001606B 公開(kāi)（公告）日 2022-03-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN111001606B 申請(qǐng)公布日 2022-03-11
分類(lèi)號(hào) B08B3/02（2006.01）I;B08B3/08（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B08B15/04（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類(lèi) 清潔;
發(fā)明人 鄧信甫;胡俊;胡農(nóng);陳黎明 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 上海至純潔凈系統(tǒng)科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 駱英靜
地址 200241 上海市閔行區(qū)紫海路170號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種半導(dǎo)體清洗設(shè)備，包括清洗盤(pán)，清洗盤(pán)用于放置晶圓片；驅(qū)動(dòng)組件，驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)清洗盤(pán)高速旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)組件；真空組件，真空組件將晶圓片吸附在清洗盤(pán)上；清洗組件，清洗組件用于向晶圓片噴射清洗液；多個(gè)升降機(jī)構(gòu)，每個(gè)升降機(jī)構(gòu)的升降端設(shè)置有多個(gè)回收環(huán)，每個(gè)回收環(huán)的上方對(duì)應(yīng)設(shè)置有防濺板，相鄰的防濺板之間形成引流槽道，清洗盤(pán)、驅(qū)動(dòng)組件、真空組件位于回收環(huán)所圍成的空間中；以及控制器，控制器接收清洗指令并控制對(duì)應(yīng)的升降機(jī)構(gòu)的升降以使對(duì)應(yīng)的防濺板與清洗盤(pán)持平。由于采用本發(fā)明的半導(dǎo)體清洗設(shè)備能夠根據(jù)不同的清洗液選擇對(duì)應(yīng)的防濺板以及回收環(huán)，因此，能夠有效的防止交叉污染。