一種硅通孔銅膜拋光液
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111218996.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113789127A | 公開(公告)日 | 2021-12-14 |
| 申請公布號 | CN113789127A | 申請公布日 | 2021-12-14 |
| 分類號 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/04(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
| 發(fā)明人 | 宋英英;王晗笑;姜鑒哲;張琳 | 申請(專利權(quán))人 | 博力思(天津)電子科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 天津翰林知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 付長杰 |
| 地址 | 300350天津市津南區(qū)咸水沽鎮(zhèn)聚興道9號4號樓一層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明為一種硅通孔銅膜拋光液,其組成包含磨料、兩種或兩種以上螯合劑、碟形坑抑制劑,其特征為:所述磨料中具有大、中、小三種級別的不同粒徑按比例混合而成,其中大級別指磨料粒徑在70?120nm范圍內(nèi)取值,中級別指磨料粒徑在50?80nm范圍內(nèi)取值,小級別指磨料粒徑在30?50nm范圍內(nèi)取值,三種級別的粒徑在選取時按照等差數(shù)列的方式在相應(yīng)范圍內(nèi)選擇;所述螯合劑為甘氨酸與堿性氨基酸的混合物。該拋光液在CMP過程中,能快速去除銅膜,同時有效抑制銅膜表面凹凸平臺之間的臺階高度。 |





