一種新型減反膜系結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201120543319.0 申請日 -
公開（公告）號 CN202453522U 公開（公告）日 2012-09-26
申請公布號 CN202453522U 申請公布日 2012-09-26
分類號 G02B1/11(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 葉祥云;湯士博 申請（專利權(quán)）人 鳳凰光學(xué)（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海新天專利代理有限公司 代理人 王敏杰
地址 334100 江西省上饒市鳳凰西大道197號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種高強(qiáng)度減反射膜系結(jié)構(gòu)，包括基材S-BSM81和鍍在基材上的AR膜。其中AR膜是一種減反膜，從內(nèi)到外包括九層膜結(jié)構(gòu)：第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）、第五低折射率膜（L5）。本實(shí)用新型所述高強(qiáng)度減反射膜系結(jié)構(gòu)耐高溫，能長久使用，對極端環(huán)境要求下的光學(xué)儀器性能穩(wěn)定提供了一中生存可能，為光學(xué)鏡片設(shè)計(jì)和制造提供便利。