子掩膜版以及掩膜版

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910932119.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110484864B 公開（公告）日 2021-09-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN110484864B 申請(qǐng)公布日 2021-09-10
分類號(hào) C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳騰;陳奎;孟維欣;李杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 重慶京東方顯示技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 解婷婷;曲鵬
地址 100015 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋路10號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例提供一種子掩膜版以及掩膜版，該子掩膜版包括襯底以及設(shè)置在所述襯底上的掩膜圖案，所述掩膜圖案包括至少一個(gè)與所述子掩膜版的拉伸方向朝向不同的第一角部，以及至少一個(gè)與所述子掩膜版的拉伸方向朝向相同的第二角部，所述第一角部為圓角，所述第二角部為倒角；該子掩膜版能夠降低張網(wǎng)過(guò)程中的褶皺高度，提高子掩膜版的蒸鍍效果。